應用領域：

適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等 , 用于鍍制低熔點金屬及合金材料薄膜，單 層 / 多層 / 復合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等；用于太陽能電池、LED 的研究和實驗。用于有機材料等蒸發； 鍍制非金屬 / 化合物等材料薄膜等

基本配置：

◆真空腔室： D 型圓筒形，尺寸約 ф450×H450mm，前開門結構；采用鉸鏈、鋁制前門，手動，上下 2 個杠桿把手，膠圈密封， 腔體內表面采用電解拋光處理；外表面采用拉絲拋光，無擦傷及劃痕。 

◆抽氣系統：采用復合分子泵 + 直聯旋片泵作為真空抽氣系統； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮氣壓縮比≥ 109 ； 前級泵：VRD-30 機械泵及電磁閥，抽速：8L/S 主抽閥： CCQ-200 超高真空氣動插板閥 

* 真空系統可以升級為進口分子泵和渦旋干泵。 

◆真空測量：數顯復合真空計： “兩低一高”全量程數顯復合真空計； 

* 真空測量可以升級為進口全量程冷陰極真空計 

◆極限真空：<5×10-5Pa 

◆恢復真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆蒸發源（選配）： 金屬蒸發源：4 組金屬蒸發源在腔體底部呈發散形分布 , 相互間擋板隔開 , 避免交叉污染，兼容金屬和有機材料蒸鍍； 束 源 爐：4 組有機蒸發源，坩堝容量（2CC），角度 0-30 度可調，最高溫度：700℃，控制精度 ±0.5℃； 

◆蒸發電源：采用恒壓、恒流真空鍍膜電源，功率 2.4Kw；電流調節精度 0.01A，電壓調節精度 0.001V，數量：2 臺 有機物蒸發電源：采用 10V30A 穩流電源，電流調節精度：0.01A，最小分辨率：0.1mV，0.1mA 數量：2 臺 

◆樣品臺：可容納樣品最大尺寸：6 英寸樣品托一個 , 配擋板，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱控溫，溫度范圍：室 溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃；( 可選帶掩膜庫系統樣品臺 ) 

◆膜厚監測儀：采用 Inficon SQM-160 速率 / 膜厚監測儀，配 1 個水冷探頭。在線監測蒸發速率與達到膜厚關閉基片擋板。 

◆控制單元：15 英寸觸摸屏 +PLC 控制

選擇配置：

◆樣品臺可水冷，采用直接式水冷形式，水冷不控溫 

◆可選薄膜鍍層控制儀（SQC-310） 

◆可選進口蒸發電源 

◆全量程真空計 (Inficon) 

◆樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅，基片盤上有螺紋孔

系統要求標準配置：

◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上 

◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 32A 

◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min，壓力 <0.4MPa